Фотолитография

Система MA/BA6 Gen3 — это отличный выбор по применению литографии для всей поверхности пластины в процес-сах из области МЭМС, 3D-интеграции
и составных полупроводников.

Идеальное решение для исследова-тельских лабораторий и мелкосерий-ных производств. Широкие технологи-ческие возможности, простота работы
и эргономичный дизайн сделали эту установку промышленным стандартом в области процессов литографии на небольших подложках и пластинах.