Нанесение и проявление фоторезиста

Системы проявления SMD от SAWATEC являются оптимальным выбором благо-даря высокой производительности, низкому расходу материалов, а также надежной воспроизводимости процес-сов даже на толстых слоях фоторезиста.

Температурная камера HP 200 — оптимальное решение для проведения комплексных процессов, где необхо-димо сверхточное соблюдение темпе-ратурных режимов.

Температурный столик HP 150 — это оптимальное решение для проведения работ, требующих точного соблюдения температурных режимов.

Идеальное решение!
Особенно в области произв-ва МЭМС.

Сверхэффективно для нанесения фоторезистов на рельефные структуры с высокой равномерностью в условиях мелкосерийного производства.

Оптимальный выбор для полуавтома-тического нанесения тонких слоев фоторезиста. Запатентованная система устранения турбулентности воздушного потока при вращении подложки позво-ляет понизить расход материалов и повысить равномерность и однород-ность получаемого покрытия.

Гибкость, поддержка всех известных промышленных фоторезистов, мате-риалов покрытий и высокий уровень точности и воспроизводимости процес-са сделали SM150 востребованной
в научно-исследовательской сфере,
а так же в прототипировании, опытном и мелкосерийном производстве.