- Главная
- О компании
-
Каталог
- Сборка и монтаж
- Микроэлектроника
- Материалы
- Статьи
- Контакты
|
В отличие от большинства установок, G500/1000 использует низкочастотную плазму. Низкочастотная плазма — это более высокая эффективность передачи энергии при меньшем нагреве, таким образом, данные установки обеспечивают максимальный эффект очистки по сравнению с любым иным оборудованием и технологиями. Комплект электродов из алюминия позволяет равномерно распределить реагенты, что дает равномерную обработку каждого изделия с постоянным результатом. Все компоненты очищаются без повреждений, а также без изменения их электрических свойств.
Количество поддонов для изделий, размер рабочей камеры | G500 — 2, размер поддона 457×457 мм, высота камеры 205 мм G1000 — 4, размер поддона 457×457 мм, высота камеры 300 мм |
Рабочая температура процесса | стандарт до 100 оС, опция — до 145 оС |
Расход инертного газа (азота) | G500 — 28 л/мин G1000 — 48 л/мин |
Расход процесс-газа (аргон, кислород и пр.) | 2,5×10-2 л/мин |
Количество газовых линий | стандарт — 3 опция — до 6 |
Мощность генератора плазмы | регулируемая, G500 — до 500 Вт G1000 — до 1000 Вт |
Контроллеры массового расхода газов | опция, возможность смешивания до трех газов в заданной пропорции |
Габаритные размеры, мм | 596×711×1015 |
Управляющий контроллер | индустриальное исполнение, сенсорный монитор, возможность сохранения до 12 рабочих программ |
© 2007-2024 NATANA.GROUP
|
г. Москва, ул. Кузнецкий Мост, дом 21/5 Email: kojin@natana-group.ru |
Телефон: +7 (495) 128-70-65 |