Тонкоплёночные структуры

Линия жидкого травления MOT-Semicon µChem

Гибкость настроек и конфигурации делает линии μChem идеальным решением как для промышленного использования, так и для нужд R&D.

Подробнее

Плазмохимическое травление Corial 200L

Компактная, простая в использовании, наиболее гибкая система травления, идеальная для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.

Подробнее

Безмасковая лазерная литография SVG optronics Miscan

Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.

Подробнее

Проявление фоторезиста Sawatec SMD 200

Системы проявления SMD от SAWATEC являются оптимальным выбором благо-даря высокой производительности, низкому расходу материалов, а также надежной воспроизводимости процес-сов даже на толстых слоях фоторезиста.

Подробнее

Сушка и дубление фоторезиста Sawatec HP 200

Температурная камера HP 200 — оптимальное решение для проведения комплексных процессов, где необхо-димо сверхточное соблюдение темпе-ратурных режимов.

Подробнее

Электронно-лучевое напыление на установках серии KE Kenosistec

Установки электронного-лучевого напыления серии KE предназначены
для нанесения тонкоплёночных покры-тий. За счет гибкости настройки и про-стоты управления может применяться
в условиях как опытного, так и серий-ного производства.

Подробнее

Лазерная резка и прошивка отверстий AUREL ALS 200

Компактная, надёжная, безопасная
и простая в использовании система лазерной резки и прошивки отверстий.

Подробнее

Электрохимическое осаждение MOT-Semicon µGalv

μGalv обеспечивает полностью автоматическое выполнение рабочих процессов, связанных с осаждением металлов на пластину.

Подробнее

Реактивно-ионное травление Corial 200R

Компактная и простая в использовании система травления, — идеальный выбор для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.

Подробнее

Безмасковая лазерная литография SVG optronics Microlab

Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.

Подробнее

Двустороннее совмещение и экспонирование SUSS MicroTec MA6/BA6

Система MA/BA6 Gen3 — это отличный выбор по применению литографии для всей поверхности пластины в процес-сах из области МЭМС, 3D-интеграции
и составных полупроводников.

Подробнее

Система совмещения и экспонирования SUSS MicroTec MJB 4

Идеальное решение для исследова-тельских лабораторий и мелкосерий-ных производств. Широкие технологи-ческие возможности, простота работы
и эргономичный дизайн сделали эту установку промышленным стандартом в области процессов литографии на небольших подложках и пластинах.

Подробнее