Проявление фоторезиста Sawatec SMD 200

Задать вопрос

Проявление экспонированного фоторезиста является одним из наиболее важных этапов, поэтому необходимо уделить особое внимание выбору процесса проявления и его параметров (температура, длительность и т. д.). Модули проявления SAWATEC могут использоваться для проявления наливом или спреем, выбор оптимального процесса производится на основании технических и экономических критериев применения.

В модуле проводится индивидуальная обработка каждой подложки спреем, на экспонированные области постоянно наносится свежий проявляющий агент, чтобы избежать насыщения проявителя. Преимуществом спреевого проявления по сравнению с проявлением наливом заключается в том, что можно отделить структуры очень маленького размера и значительно уменьшить количество проявляющего раствора.

Системы серии SMD предназначены для отмывки и проявления полупроводниковых пластин размером до 8 дюймов и подложек размером до 6х6 дюймов (150×150 мм). Рабочая камера способна вместить полупроводниковые пластины и подложки диаметром до 212 мм.