г. Москва, ул. Кузнецкий Мост, дом 21/5
+7 (495) 128-70-65
Меню
Каталог товаров

Тонкоплёночные структуры

Сортировать по
Выводить по
20
Линия жидкого травления MOT-Semicon µChem Линия жидкого травления MOT-Semicon µChem
Гибкость настроек и конфигурации делает линии μChem идеальным решением как для промышленного использования, так и для нужд R&D.
Плазмохимическое травление Corial 200L Плазмохимическое травление Corial 200L
Компактная, простая в использовании, наиболее гибкая система травления, идеальная для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.
Безмасковая лазерная литография SVG optronics Miscan Безмасковая лазерная литография SVG optronics Miscan
Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.
Проявление фоторезиста Sawatec SMD 200 Проявление фоторезиста Sawatec SMD 200
Системы проявления SMD от SAWATEC являются оптимальным выбором благо-даря высокой производительности, низкому расходу материалов, а также надежной воспроизводимости процес-сов даже на толстых слоях фоторезиста.
Сушка и дубление фоторезиста Sawatec HP 200 Сушка и дубление фоторезиста Sawatec HP 200
Температурная камера HP 200 — оптимальное решение для проведения комплексных процессов, где необхо-димо сверхточное соблюдение темпе-ратурных режимов.
Электронно-лучевое напыление на установках серии KE Kenosistec Электронно-лучевое напыление на установках серии KE Kenosistec
Установки электронного-лучевого напыления серии KE предназначены
для нанесения тонкоплёночных покры-тий. За счет гибкости настройки и про-стоты управления может применяться
в условиях как опытного, так и серий-ного производства.
Лазерная резка и прошивка отверстий AUREL ALS 200 Лазерная резка и прошивка отверстий AUREL ALS 200
Компактная, надёжная, безопасная
и простая в использовании система лазерной резки и прошивки отверстий.
Электрохимическое осаждение MOT-Semicon µGalv Электрохимическое осаждение MOT-Semicon µGalv
μGalv обеспечивает полностью автоматическое выполнение рабочих процессов, связанных с осаждением металлов на пластину.
Реактивно-ионное травление Corial 200R Реактивно-ионное травление Corial 200R
Компактная и простая в использовании система травления, — идеальный выбор для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.
Безмасковая лазерная литография SVG optronics Microlab Безмасковая лазерная литография SVG optronics Microlab
Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.
Двустороннее совмещение и экспонирование SUSS MicroTec MA6/BA6 Двустороннее совмещение и экспонирование SUSS MicroTec MA6/BA6
Система MA/BA6 Gen3 — это отличный выбор по применению литографии для всей поверхности пластины в процес-сах из области МЭМС, 3D-интеграции
и составных полупроводников.
Система совмещения и экспонирования SUSS MicroTec MJB 4 Система совмещения и экспонирования SUSS MicroTec MJB 4
Идеальное решение для исследова-тельских лабораторий и мелкосерий-ных производств. Широкие технологи-ческие возможности, простота работы
и эргономичный дизайн сделали эту установку промышленным стандартом в области процессов литографии на небольших подложках и пластинах.
Сушка и дубления фоторезиста Sawatec HP 150 Сушка и дубления фоторезиста Sawatec HP 150
Температурный столик HP 150 — это оптимальное решение для проведения работ, требующих точного соблюдения температурных режимов.
Нанесение фоторезиста распылением Sawatec iSPRAY 300 Нанесение фоторезиста распылением Sawatec iSPRAY 300
Идеальное решение!
Особенно в области произв-ва МЭМС.

Сверхэффективно для нанесения фоторезистов на рельефные структуры с высокой равномерностью в условиях мелкосерийного производства.
Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 200 Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 200
Оптимальный выбор для полуавтома-тического нанесения тонких слоев фоторезиста. Запатентованная система устранения турбулентности воздушного потока при вращении подложки позво-ляет понизить расход материалов и повысить равномерность и однород-ность получаемого покрытия.
Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 150 Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 150
Гибкость, поддержка всех известных промышленных фоторезистов, мате-риалов покрытий и высокий уровень точности и воспроизводимости процес-са сделали SM150 востребованной
в научно-исследовательской сфере,
а так же в прототипировании, опытном и мелкосерийном производстве.
Магнетронное напыление на установках серии KS Kenosistec Магнетронное напыление на установках серии KS Kenosistec
Установки магнетронного распыления серии KS предназначены для нанесения тонкоплёночных покрытий.

За счет гибкости настройки и простоты управления может применяться в усло-виях как опытного, так и серийного производства.


© 2007-2024 NATANA.GROUP

г. Москва, ул. Кузнецкий Мост, дом 21/5

Email: kojin@natana-group.ru
Телефон:
+7 (495) 128-70-65
VSRT3S1_VILKA