Тонкоплёночные структуры

Безмасковая лазерная литография SVG optronics Microlab

Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.

Подробнее

Безмасковая лазерная литография SVG optronics Miscan

Универсальные системы безмасковой лазерной литографии SVG Optonics предназначены как для производства шаблонов, так и для прямого формиро-вания субмикронных изображений на подложках с высокой скоростью.

Подробнее

Двустороннее совмещение и экспонирование SUSS MicroTec MA6/BA6

Система MA/BA6 Gen3 — это отличный выбор по применению литографии для всей поверхности пластины в процес-сах из области МЭМС, 3D-интеграции
и составных полупроводников.

Подробнее

Лазерная резка и прошивка отверстий AUREL ALS 200

Компактная, надёжная, безопасная
и простая в использовании система лазерной резки и прошивки отверстий.

Подробнее

Линия жидкого травления MOT-Semicon µChem

Гибкость настроек и конфигурации делает линии μChem идеальным решением как для промышленного использования, так и для нужд R&D.

Подробнее

Магнетронное напыление на установках серии KS Kenosistec

Установки магнетронного распыления серии KS предназначены для нанесения тонкоплёночных покрытий.

За счет гибкости настройки и простоты управления может применяться в усло-виях как опытного, так и серийного производства.

Подробнее

Нанесение фоторезиста распылением Sawatec iSPRAY 300

Идеальное решение!
Особенно в области произв-ва МЭМС.

Сверхэффективно для нанесения фоторезистов на рельефные структуры с высокой равномерностью в условиях мелкосерийного производства.

Подробнее

Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 150

Гибкость, поддержка всех известных промышленных фоторезистов, мате-риалов покрытий и высокий уровень точности и воспроизводимости процес-са сделали SM150 востребованной
в научно-исследовательской сфере,
а так же в прототипировании, опытном и мелкосерийном производстве.

Подробнее

Нанесение фоторезиста центрифугированием Sawatec SM 200

Оптимальный выбор для полуавтома-тического нанесения тонких слоев фоторезиста. Запатентованная система устранения турбулентности воздушного потока при вращении подложки позво-ляет понизить расход материалов и повысить равномерность и однород-ность получаемого покрытия.

Подробнее

Плазмохимическое травление Corial 200L

Компактная, простая в использовании, наиболее гибкая система травления, идеальная для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.

Подробнее

Проявление фоторезиста Sawatec SMD 200

Системы проявления SMD от SAWATEC являются оптимальным выбором благо-даря высокой производительности, низкому расходу материалов, а также надежной воспроизводимости процес-сов даже на толстых слоях фоторезиста.

Подробнее

Реактивно-ионное травление Corial 200R

Компактная и простая в использовании система травления, — идеальный выбор для исследовательских работ, прототипирования и быстрого вывода продукта на рынок.

Подробнее